| 沸点 | 73 °C/5 mmHg |
| 折光率 | 1.489 |
| 敏感性 | 对空气敏感 |
| 存贮条件 | 充氩保存 |
| 密度 | 0.8060 |
| 应用 | 超甲硅烷基保护基团可用于：· 氢化硅烷化· 自由基反应· 酸性氯化物的还原· 碳-卤键的还原· 羰基氢化反应· 另一种常见应用涉及在与过渡金属和主族元素络合时，三（三甲基甲硅烷基）甲硅烷基（TTMSS或超甲硅烷基）基团的使用· 最近，超甲硅烷基被用于碳-碳键形成的反应 |
| 别名 | 三(三甲硅基)硅烷 ;1,1,1,3,3,3-Hexamethyl-2-trimethylsilyl-trisilaneTTMSS |
三(三甲硅基)硅烷
Tris(trimethylsilyl)silane （订货以英文为准）
编号：T111832
CAS号：1873-77-4
分子式：C9H28SI4
分子量：248.66
| 产品名称 | Tris(trimethylsilyl)silane |
| 中文名称 | 三(三甲硅基)硅烷 |
| CAS号 | 1873-77-4 |
| 分子式（M.F.） | C9H28SI4 |
| 分子量（M.W.） | 248.66 |
| 储存条件 | 充氩 |
| Reaxys-RN | 1733718 |
| 标识符号 | https://www.aladdin-e.com/images/ghs/ghs02.jpg,https://www.aladdin-e.com/images/ghs/ghs07.jpg |
| 信号词 | Warning |
| 危害声明 | H226,H315,H319,H335 |
| 警示性声明 | P261,P305+P351+P338 |
| 个人防护设备 | Eyeshields,Faceshields,full-face respirator (US),Gloves,multi-purpose combination respirator cartridge (US),type ABEK (EN14387) respirator filter |
| WGK德国 | 3 |
| 闪点（摄氏） | 37 °C |
| 风险声明 (欧洲) | R10;R36/37/38 |
| 安全声明（欧洲） | S26;S36 |
| 危害码（欧洲） | Xi |
| UN代码 | 1993 |
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