别名: 砷化铋(III);硒化铋(III);2-溴-6-三氟甲基-3-氨基吡啶;砷化铋;硒化铋;硒化铋(III),真空沉积级;硒化铋(III), 痕量分析;砷化铋(III), VACUUM DEPOSITION GRADE, 99.999% (METALS BASI;砷化铋(III),VACUUMDEPOSITIONGRADE,99.999%(METALSBASIS);硒化铋(III),真空沉积级, 99.999% (METALS BASIS)
CAS No.:12068-69-8
分子式: Bi2Se3
分子量: 654.84
EINECS: 235-104-7
别名: 硒化铟;硒化铟(III);铟硒化物;三硒化二铟;硒化铟, 99.99% (METALS BASIS);硒化铟(III), 痕量分析;硒化铟(III), 99.99% (METALS BASIS);硒化铟IN2SE3
CAS No.:12056-07-4
分子式: In2Se3
分子量: 466.52
EINECS: 235-016-9
别名: 4-乙烯基苯硼酸甲基亚氨基二乙酸酯;硒化银;硒化银(I)
CAS No.:1302-09-6
分子式: Ag2Se
分子量: 294.70
EINECS: 215-099-8
硫化铋(III)
别名: 硫化铋(III);硫化铋;三硫化二铋;硫化铋(III), 99.9% (METALS BASIS);硫化铋(III), 99.999% (METALS BASIS);PERFEMIKER]硫化铋(III),99%
CAS No.:1345-07-9
分子式: Bi2S3
分子量: 514.16
EINECS: 215-716-0
别名: 硫化铟;硫化铟(III);硫酸铟;三硫化二铟;硫化铟, 99.98% (METALS BASIS);硫化铟, 99.997% (METALS BASIS);硫化铟(III), 99.999% (METALS BASIS);硫化铟(III), 99.995% (METALS BASIS);硫化铟(III), 99.98% (METALS BASIS);硫化铟靶材 直径50.8X5MM
CAS No.:12030-24-9
分子式: In2S3
分子量: 325.83
EINECS: 234-742-3
MDL号: MFCD00011061
别名: 碲化铋;碲化铋(III);1H-吡咯并[2,3-b]吡啶-2-醇;碲化铋(III), 99.98% (METALS BASIS);碲化铋(III), 真空沉积级, 99.999% (METALS BASIS);碲化铋(III),VACUUMDEPOSITIONGRADE,99.999%(METALSBASIS);碲化铋(III), VACUUM DEPOSITION GRADE, 99.999% (METALS BASI;P/N型碲化铋;碲化铋BI(III);N型(掺锡2-5%)BISMUTH TELLURIDE
CAS No.:1304-82-1
分子式: Bi2Te3
分子量: 800.76
EINECS: 215-135-2
别名: 碲化铟(III);碲铟合金;金铂钯合金粉末;硒化铟(III);碲化铟;三碲化二铟;碲化铟YIN(III)
CAS No.:1312-45-4
分子式: H5InTe
分子量: 247.46
EINECS: 215-194-4
别名: 碲化银(I);碲化银
CAS No.:12002-99-2
分子式: Ag2Te
分子量: 343.34
别名: 碲化锑;碲化锑(III);芴甲氧羰基-天冬氨酸-4环己脂;碲化锑(III), 痕量分析;碲化锑, 99% (METALS BASIS);碲化锑, 99.999% (METALS BASIS);碲化锑(III), 99.999% (METALS BASIS)
CAS No.:1327-50-0
分子式: Sb2Te3
分子量: 626.32
EINECS: 215-480-9